СЕРВИСЫ
Каталог IT 
Разработка сайтов
Интернет-провайдеры

Отправить новость

Сообщите новость, интересную читателям 42.TUT.BY


реклама

Intel инвестирует до 1,5 млрд. в Fab 11X для перевода её на 45-нм техпроцесс


Фабрика D1D | Фотография: IntelКорпорация Intel планирует вложить в переоборудование собственной Fab 11X (США, штат Нью-Мексико) до 1,5 млрд. долл. После обновления фабрика Fab 11X станет четвертой производственной площадкой Intel, способной выпускать продукцию по 45-нанометровому техпроцессу.
 
Ввод в эксплуатацию новых производственных мощностей на фабрике Intel в Нью-Мексико намечен на вторую половину следующего года.

Переход на 45-нм техпроцесс Intel считает одной из важнейших вех на пути усовершенствования структуры транзисторов за последние 40 лет. Такая технология производства подразумевает применение
металлического затвора и диэлектриков high-k – такое инновационное сочетание новых материалов позволяет существенно снизить токи утечки и сократить время переключения транзисторов.

Корпорация Intel начнет выпускать микросхемы по новой 45-нанометровой производственной технологии уже в этом году. Опытные образцы нового семейства продукции, изготовленной по 45-нанометровой технологии (под кодовым наименованием Penryn), уже работоспособны - на них успешно были запущены несколько различных
операционных систем и приложений. Как и было запланировано ранее, корпорация Intel намерена начать массовый выпуск продукции на основе 45-нанометровой производственной технологии во второй половине текущего года.

Выпуск продукции Intel по новой 45-нанометровой производственной технологии начнется на опытно-экспериментальной фабрике D1D в Орегоне. Сейчас Intel строит еще две фабрики, рассчитанные на использование 45-нанометрового производственного процесса. Строительство Fab 32 в Чэндлере, шт. Аризона, обойдется в 3 миллиарда долл., ее запуск состоится уже в текущем году. В строительство Fab 28 в Кирьят-Гате (Израиль) вложено 3,5 миллиарда долл., открытие этой фабрики запланировано на первую половину следующего года. Сейчас Fab 11X выпускает микросхемы по 90-нанометровой технологии на базе кремниевых подложек диаметром 300 мм. Эта фабрика была открыта в октябре 2002 года и стала первой фабрикой Intel, на которой было освоено массовое производство микросхем на базе подложек диаметром 300 мм. Кроме того, эта фабрика также стала первым полностью автоматизированным крупносерийным производством Intel по выпуску 300-мм кремниевых подложек.


Отправить новость
Сообщите редакции новость, интересную читателям 42.TUT.BY