Подпишитесь на нашу ежедневную рассылку с новыми материалами

Наука


Наталья Лаврентьева, /

Ученые из Массачусетского технологического университета (MIT) сообщают, что нашли способ добиться разрешения в 9 нм для технологии электронно-лучевой литографии, которая рассматривается как одна из альтернатив фотолитографии, широко применяющейся сейчас для производства чипов. Результаты своего исследования они опубликовали в последнем номере журнала Microelectronic Engineering.
 
Отмечается, что на протяжении 50 лет транзисторы в компьютерных чипах становятся все меньше, и все это время производители полупроводниковых используют одну и ту же технологию – фотолитографию. Но размер транзисторов, выполненных с помощью этой технологии, ограничен длиной волны видимого света.
 
"Если чипмейкеры рассчитывают продолжить идти в сторону уменьшения, им, вероятно, придется переключиться на другие производственные методы", - говорится в сообщении университета.
 
В MIT поясняют, что исследователи уже давно используют технику, которая называется электронно-лучевой литографией, чтобы создавать прототипы чипов. Однако обычная литография этого типа гораздо медленней, чем фотолитография. Повышение ее скорости, как правило, идет в ущерб разрешению. Так, предыдущий самый маленький чип, созданный на базе электронно-лучевой литографии, обладал топологией в 25 нм, что ненамного лучше показателя в 32 нм, достигнутого с использованием экспериментальной фотолитографии – чипы, созданные с использованием такой технологии уже показывали некоторые производители.
 
Для того чтобы добиться разрешения в 9 нм ученые MIT подобрали фоторезист (светочувствительный материал), реагирующий на малые дозы электронов, который нанесли более тонким, чем обычно, слоем, чтобы минимизировать разброс электронов. После облучения схему "проявили" в растворе поваренной соли, благодаря чему области, получившие разное количество электронов, выровнялись по характеристикам.
 
Профессор физики Питер Крют (Pieter Kruit) из технологического университета Делфта в Нидерландах и сооснователь компании Mapper, которая занимается изготовлением литографических систем на базе электронно-лучевой технологии, сомневается, что производители впоследствии используют именно тот фоторезист, который задействовали ученые MIT в своих экспериментах.
 
"Несмотря на то что целью ученых было найти фоторезист, реагирующий на малые дозы электронов, тот, что они использовали, является слишком чувствительным", - полагает он.
Нужные услуги в нужный момент
{banner_1133}